科研级高精度磁光克尔效应测量系统
高精度斯托克斯量测量系统
Hinds Instruments 公司的新型磁光克尔效应测量系统可以用来绘制磁性薄膜材料的磁滞回线。通光光弹调制技术，该系统可以提供科研级别的极高测量精度
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Hinds Instruments’公司的新型磁光克尔效应测量系统可以用来绘制磁性薄膜材料的磁滞回线。通光光弹调制技术,该系统可以提供科研级别的极高测量精度。
“光弹调制技术用来测量绘制磁性薄膜材料磁滞回线的美妙之处在于, 它不仅增加了微弱磁光效应的信噪比，而且可以同时探测到与克尔（或法拉第）椭偏率和偏转角分别成正比的基频和二次谐波的信号并且在一些情况下可以消除偏光器件中的缺陷 。这就意味着可以同时获得椭偏率和偏转角这两个重要的参数.”
- Dr. Ron Atkinson, Professor Emeritus,贝尔法斯特皇后大学。
产品特点
•极高重复精度高的测量系统
•同时测量显示椭偏率和偏转角
•高速测量磁滞回线
•光学测量，样品无损
•区别于旋转波片等手段,光路固定,测量稳定。
参数：
•光源：635 nm laser diode
•光弹性调制器技术
•磁场：电磁场
•最大磁场：+/- 2400 Gauss (0.24T)
•霍尔探头探测
•磁场探测精度：0。5GS
•Sample size: 30 mm X 30 mm
•Size (footprint): 12 in x 31 in (305 mm x 787 mm)
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